1、定義
TA1鈦靶管是以中國國家標(biāo)準(zhǔn) GB/T 3620.1 中的 TA1（工業(yè)純鈦） 為原材料，通過塑性加工成型的空心圓柱形濺射靶材。TA1鈦的純度為 99.5% 左右（Fe≤0.20%、O≤0.25%、C≤0.10%），適用于中低功率磁控濺射工藝，主要用于工業(yè)防腐、裝飾鍍層及中端功能性薄膜的制備。
2、性能特點(diǎn)
基礎(chǔ)性能：
純度：TA1鈦純度 99.5%，雜質(zhì)以Fe、O為主，適合對(duì)薄膜性能要求不苛刻的場景。
機(jī)械性能：抗拉強(qiáng)度≥345 MPa，延伸率≥20%，硬度HV 120-180。
結(jié)構(gòu)優(yōu)勢：
管狀設(shè)計(jì)：旋轉(zhuǎn)濺射利用率達(dá) 60-70%，降低材料損耗。
耐腐蝕性：在3.5% NaCl溶液中年腐蝕速率≤0.01 mm，適合一般工業(yè)環(huán)境。
成本優(yōu)勢：
原材料成本低（￥400-600/kg），適合規(guī)?；a(chǎn)需求。
3、材質(zhì)與制造工藝
材質(zhì)：
基材：TA1工業(yè)純鈦（GB/T 3620.1），未經(jīng)過二次提純，保留原始雜質(zhì)水平。
復(fù)合結(jié)構(gòu)：部分靶管內(nèi)壁復(fù)合鋁或銅背板（提升散熱效率）。
制造工藝：
管材成型：
熱擠壓（900-1000°C）→冷軋→退火（消除加工應(yīng)力）。
焊接與加工：
管端采用氬弧焊（TIG）密封，表面粗拋光（Ra≤1.2 μm）。
清洗與封裝：
堿洗+酸洗去除表面氧化物→干燥后真空封裝。
4、執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)
| 標(biāo)準(zhǔn)類型 | 具體標(biāo)準(zhǔn) |
| 國內(nèi)標(biāo)準(zhǔn) | GB/T 3620.1（TA1工業(yè)純鈦）、GB/T 3625（鈦及鈦合金管材） |
| 行業(yè)規(guī)范 | JB/T 8554（工業(yè)涂層技術(shù)條件）、SJ/T 11609-2016（濺射靶材通用規(guī)范） |
| 國際參考 | ASTM B338（鈦及鈦合金無縫管）、ISO 5832-2（醫(yī)用鈦材性能參考） |
5、應(yīng)用領(lǐng)域
工業(yè)防腐涂層：
化工設(shè)備管道的 純鈦鍍層（耐酸堿腐蝕，替代不銹鋼）。
海洋平臺(tái)螺栓的 CrTiN復(fù)合涂層（耐鹽霧≥500小時(shí)）。
裝飾鍍膜：
衛(wèi)浴五金件的 氮化鈦（TiN）仿金鍍層（成本低于電鍍工藝）。
家具配件的 TiC黑色涂層（防指紋、耐磨）。
中端功能性薄膜：
包裝材料的 阻隔層（氧氣透過率≤5 cm3/m2·day）。
汽車燈具的 反射膜（反射率≥85%）。
6、與其他鈦靶管的異同對(duì)比
| 特性 | TA1鈦靶管 | TA1高純鈦靶管（3N級(jí)） | TA2鈦靶管 | 鈦合金靶管（Ti6Al4V） |
| 純度 | 99.5%（Fe≤0.20%） | 99.9%（Fe≤0.05%） | 99.5%（Fe≤0.30%） | 90% Ti + 6% Al + 4% V |
| 成本 | 低（￥400-600/kg） | 中（￥600-1000/kg） | 低（￥400-800/kg） | 中高（￥1000-1500/kg） |
| 耐溫性 | ≤400°C（氧化前） | ≤600°C | ≤500°C | ≤350°C（Al易氧化） |
| 薄膜均勻性 | ±8%（中低功率濺射） | ±5%（中高功率濺射） | ±10%（低功率濺射） | ±12%（合金偏析影響） |
| 適用場景 | 防腐/裝飾鍍層、一般工業(yè)鍍膜 | 中端工具涂層、光學(xué)鍍膜 | 基礎(chǔ)工業(yè)防護(hù) | 輕型耐磨部件 |
7、選購方法與注意事項(xiàng)
選購方法
雜質(zhì)檢測：
要求供應(yīng)商提供 光譜分析報(bào)告（OES），確認(rèn)Fe≤0.20%、O≤0.25%。
若用于氮化鈦鍍層，需額外檢測N含量（≤0.05%）。
幾何精度驗(yàn)證：
壁厚公差 ±0.2 mm，同心度≤0.1 mm（卡尺+激光掃描檢測）。
供應(yīng)商評(píng)估：
選擇具備穩(wěn)定軋制與焊接能力的廠商，優(yōu)先考慮通過 ISO 9001 認(rèn)證的企業(yè)。
注意事項(xiàng)
儲(chǔ)存與預(yù)處理：
儲(chǔ)存環(huán)境濕度<50% RH，避免表面氧化生成TiO?（可用干燥劑密封）。
使用前用 丙酮+超聲波清洗 去除油污，禁止用手直接接觸靶面。
工藝優(yōu)化：
TiN涂層：氮?dú)庹急?nbsp;30-50%，基片溫度 100-250°C，功率≤8 W/cm2。
純鈦鍍層：氬氣純度≥99.99%，濺射氣壓 0.5-0.8 Pa（減少氧污染）。
維護(hù)與報(bào)廢：
定期檢查靶管壁厚（剩余厚度<2 mm時(shí)需更換），避免濺射穿孔。
報(bào)廢靶管可回收熔煉為低端鈦材，但不可重復(fù)用于高純度鍍膜。
TA1鈦靶管憑借其低成本、易加工和良好的耐腐蝕性，成為工業(yè)防腐與裝飾鍍層的經(jīng)濟(jì)型選擇。相較于高純鈦靶管，其薄膜均勻性和耐溫性稍遜，但成本優(yōu)勢顯著；與TA2鈦靶管相比，雜質(zhì)控制更優(yōu)，適合對(duì)鍍層質(zhì)量要求稍高的場景。選購時(shí)需重點(diǎn)關(guān)注Fe、O雜質(zhì)含量及幾何精度，應(yīng)用中需控制濺射參數(shù)以避免膜層缺陷。對(duì)于高端半導(dǎo)體或精密光學(xué)領(lǐng)域，建議選用高純鈦靶管；而在一般工業(yè)防護(hù)、裝飾鍍層及包裝阻隔等場景，TA1鈦靶管可實(shí)現(xiàn)性價(jià)比最優(yōu)。
