高純鉻靶

產品名稱：鎳靶產品材質：Ni產品規格：685.7 L x 127 W x 6 H mm （按客戶要求定制) (可提供背板綁定)純度：99.99%產品應用：電子半導體，晶元及芯片、微電子傳感器、航空航天、5G光電行... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓柱靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( kg/塊）用途：鉻靶用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加工后的產品，具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。1、用途適用... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓靶產地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質含量： 0.5%重量 ：不等( KG/塊）用途：鉻靶用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

圓柱鈦靶材憑借其高致密性與工藝適應性，在半導體（如5 nm節點TiN阻擋層）和超精密光學領域不可替代。相較于鈦管靶，其材料利用率低約20%，但更適合小尺寸高精度鍍膜（如Φ200 mm晶圓）；對比鎳靶塊，鈦靶的耐高溫性（熔點高213℃）和膜層硬度（TiN硬度達2000 HV）優勢顯著。在高端應用中，需選擇HIP工藝制備的納米晶靶材... 【詳情】