鍍膜靶材上的薄膜是一種特殊的物質(zhì)形態(tài)。在厚度這個特定方向上尺寸很小，是一個微觀可測的量，而且薄膜厚度由于表面和界面的存在，使物質(zhì)連續(xù)性發(fā)生終端，使得薄膜材料與靶材材料產(chǎn)...

鈦靶鎳靶等靶材在使用過程中，其表面逐漸會產(chǎn)生一種黑色顆粒狀物質(zhì)，我們稱之為黑化物，或是說靶材中毒。靶材黑化中毒容易產(chǎn)生諸多問題，影響產(chǎn)品的質(zhì)量。因此分析靶材黑化中毒的原...

靶材是制備薄膜的主要材料之一，被廣泛應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如液晶顯示屏、集成電路、平板顯示等等，對材料的純度和穩(wěn)定性要求較高。更換不同的靶材，即可得到不同的膜系。凱澤金...

鈦靶、鉻靶、鋯靶、鎳靶等合金濺射靶材的要求比其他材料要高，除了如純度、尺寸、各項雜質(zhì)含量、缺陷控制等一般要求外，還有表面粗糙度、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺...

硬質(zhì)涂層是通過氣相沉積法，在硬質(zhì)合金刀片表面上涂覆耐磨的碳化鈦、氧化鋁等薄層，從而形成表面涂層硬質(zhì)合金，這種涂層材料耐磨性好，耐腐蝕，且耐高溫氧化，在切削刀具和耐磨零部件等...

對于需要制備不同尺寸的靶材所采用的制備方法也不一樣，比如制備小尺寸的靶材，常用的是粉末熱等靜壓法以及粉末壓制燒結(jié)法。那么對于大尺寸的靶材制備各種表面強化和表面防護(hù)涂...

磁控濺射是制備薄膜材料的關(guān)鍵技術(shù)，而鈦靶材是這項技術(shù)中需要使用的鍍膜材料。現(xiàn)在很多行業(yè)，如集成電路，裝飾鍍膜行業(yè)、平面顯示等都需要用到磁控濺射技術(shù)，這些行業(yè)對于產(chǎn)品的質(zhì)...

隨著產(chǎn)業(yè)技術(shù)的發(fā)展，工業(yè)生產(chǎn)需要高質(zhì)量的靶材產(chǎn)品，因為靶材的質(zhì)量直接影響著磁控濺射薄膜的性能，目前，企業(yè)一般在購買靶材上更偏向用成分結(jié)構(gòu)均勻的高密度靶材進(jìn)行濺射鍍膜，以減...

濺射鉬靶材因其自身優(yōu)點，已經(jīng)在電子行業(yè)、太陽能電池、玻璃鍍膜等方面得到了廣泛的應(yīng)用。隨著現(xiàn)代科技微型化、集成化、數(shù)字化、智能化的快速發(fā)展，鉬靶材的用量將持續(xù)增長，對其...

鈦靶鎳靶靶材作為磁控濺射系統(tǒng)中的陰極，為制備沉積薄膜提供物質(zhì)來源，其組織結(jié)構(gòu)和性能的差異對薄膜的組織結(jié)構(gòu)和性能也應(yīng)該具有密切聯(lián)系。靶材的制作方法之一粉末冶金法中，需要...

大家都知道鈦鎳鋯鉻濺射靶材的規(guī)格很多，而且應(yīng)用行業(yè)也很廣泛，不同行業(yè)常用的靶材種類也有所不同，今天我們就隨凱澤金屬一道來了解濺射靶材的行業(yè)分類的相關(guān)知識吧！一、濺射靶材...

大家都知道靶材分為很多種，比如合金，氧化物，銅、鋁、不銹鋼、鎳、鈦等金屬，而根據(jù)金屬的不同，需要用到各種不同的靶材制備方法，凱澤金屬結(jié)合相關(guān)資料，整理如下：濺射靶材的不同工藝方...

為了降低旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶材的成本，提高靶材利用率，靶材廠家和學(xué)者共同對靶材結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究。研究結(jié)果表明，通過調(diào)整中心磁體和外磁體的位置，能有效提高鈦靶材利用率和靶材的刻蝕...

AZO靶材是其中一種制造高科技節(jié)能玻璃鍍膜材料，用于用于物理鍍膜中的濺鍍，除了AZO靶材，還有金屬靶材和陶瓷靶材。陶瓷旋轉(zhuǎn)靶材采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)較好大長度4000mm，單節(jié)較...

陶瓷靶材的種類及其應(yīng)用隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬...

1、化工行業(yè)：整體法蘭(IF)、螺紋法蘭(Th)、板式平焊法蘭(PL)、帶頸對焊法蘭(WN)、帶頸平焊法蘭(SO)、承插焊法蘭(SW)、對焊環(huán)松套法蘭(PJ/SE)、平焊環(huán)松套法蘭(PJ/RJ)、襯里...

鈦合金TC4材料的組成為Ti-6Al-4V，屬于(α+β)型鈦合金，具有良好的綜合力學(xué)機械性能。比強度大。TC4的強度sb=1.012GPa，密度g=4.4*103，比強度sb/g=23.5，而合金鋼的比強度sb/g小于1...

鋯和鈦具有許多類似的物理、化學(xué)性能。例如他們的熔點都很高，純鈦： 1668 ℃，純鋯： 1852 ℃。鋯和鈦的化學(xué)活性都很高，而且鋯比鈦更高，但表面都能形成致密的鈍化膜，具有很高的耐蝕性...

靶 材 主 要應(yīng) 用 于 電 子及 信息 產(chǎn) 業(yè) ，如 集 成 電路 、信息 存 儲 、液晶顯示屏、太陽能電池、電子控制器件等領(lǐng)域。隨著集成電路、太陽能和平面顯示器產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，靶材的...

鍍膜方法真空蒸鍍?yōu)R射鍍離子鍍化學(xué)反應(yīng)鍍可鍍物質(zhì)金屬金屬某些化合物金屬、合金、化合物、陶瓷、高分子物質(zhì)金屬、合金、陶瓷、化合物膜材蒸發(fā)方式真空蒸鍍真空濺射蒸鍍、濺...

由于磁控濺射鐵磁性靶材的難點是靶材表面的磁場達(dá)不到正常磁控濺射時要求的磁場強度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度，以達(dá)到正常濺射工作對靶材表面磁場大小的...

真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到定溫度，使材料中分子或原...

近年來，隨著新材料的開發(fā)，尤其是薄膜材料的發(fā)展和應(yīng)用，帶動控濺射沉積技術(shù)的飛速發(fā)展，在科學(xué)研究領(lǐng)域和工業(yè)生產(chǎn)中有著不可替代的重要作用。本文主要介紹了控濺射沉積鍍膜技術(shù)的...

高純鈦作為電子信息領(lǐng)域重要的功能薄膜材料，近年來隨著我國集成電路、平面顯示、太陽能等產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展需求量快速上升。磁控濺射技術(shù)(PVD)技術(shù)是制備薄膜材料的關(guān)鍵技術(shù)之...

鈦靶材的制造方法，包括選取鈦原料，將鈦原料熔融，并將熔湯澆鑄，澆鑄后的熔湯冷卻形成鑄錠坯料；之后立即進(jìn)行熱處理，然后將保溫?zé)崽幚砗蟮蔫T錠坯料形成鈦坯；進(jìn)行第二熱處理，然后將保溫...

寶雞市凱澤金屬材料有限公司，多年來專注于濺射靶材、真空鍍膜鈦、鎳、鋯、鉻靶材的生產(chǎn)及深加工，靶材廣泛應(yīng)用于主營平板顯示器用靶材，鍍膜玻璃工業(yè)用靶材，電阻靶材，汽車車燈鍍膜...

法蘭連接是一種在壓力容器和壓力管道工程設(shè)計中應(yīng)用非常廣泛的可拆式連接形式。保證連接的強度安全和密封安全是對法蘭接頭設(shè)計提出的最基本要求。因此，法蘭計算需要解決三個...

TC4鈦合金是20世紀(jì)40年代初期研制成功的一種中等強度的口β型鈦合金，具有優(yōu)良的綜合性能，譽稱萬能合金，是最早最廣泛用于飛機結(jié)構(gòu)的通用鈦合金，包括板材、棒材和鍛鑄件等，主要用...

銘及其化合物廣泛應(yīng)用于染料 、 顏料 、 皮革 、 電鍍 、 冶金等行業(yè) ， 含鋸廢水如處理不當(dāng)或未有效控制會引起水與土壤污染 。 含銘廢水污染物毒性大 ， 通過食物鏈危害人們的...

鋁涂層具有優(yōu)良的耐腐蝕性和良好的經(jīng)濟效益，在耐蝕性涂層方面一直是圍內(nèi)外選用較多的涂層。另外，鋁涂層因具有良好的附著性、反射性及漂亮的銀白色外觀等，在半導(dǎo)體器件、大規(guī)模...

引言現(xiàn)代建筑大多已開始采用大面積玻璃采光，這一方面帶給我們更明亮的房間以及更寬闊的視野 ，另一方面由于透過玻璃傳遞 的熱能遠(yuǎn)高于周圍墻體 ，導(dǎo)致整個建筑物的使用能耗明顯...

前 言磁控濺射鍍膜屬于物理氣相沉積，離子在電場加速下高速轟擊陰極靶材，靶材原子被濺射出來后沉積到被鍍膜體表面而形成薄膜，是用來制備薄膜材料的一種主要方法 [1] 。它的基本...

硬質(zhì)涂層用濺射靶材對靶材的純度 、內(nèi)部組織結(jié)構(gòu)、力學(xué)強度、外觀尺寸要求較高，同時靶材的成分和制備工藝對膜層 的各項性能有著決定性影響 。 。鈦鋁合 金(Ti—A I)作為一種...

磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成...

凱澤金屬，寶雞鈦靶、鉻靶、鎳靶、鋯靶等靶材生產(chǎn)廠家，多年來專注鈦多弧靶、平面靶、板靶、管靶、旋轉(zhuǎn)靶等靶材的深加工，有關(guān)靶材鍍膜的工藝，結(jié)合蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜的兩種不同，結(jié)...

濺射鍍膜就是最近發(fā)展起來的一種新的表面處理技術(shù)。表面處理技術(shù)能使材料的物理機械和化學(xué)性能得到提高,而濺射鍍膜比以往的真空鍍膜具有“高速、低溫”兩個顯著的特點。靶...